 |
IBM объявила о крупном прорыве в технологии производства чипов. Размер элемента чипа выполненного по новой технологии составляет 29.9 нанометров, что в три раза меньше чем использующиеся в настоящее время (90 нм). Доктор Роберт Аллен, менеджер литографической лаборатории в исследовательском центре IBM, сказал, что цель исследований в том, чтобы развить возможности оптической литографии до максимально возможного предела.
На фото: штрихи, выполненные с помощью, слева — 30 нм технологии, справа 90 нм.
Переход на новую технологию позволит заметно уменьшить потребление энергии электроникой и повысить производительность устройств на основе новых чипов. Оцените новость и оставьте свой комментарий ниже на странице,
подпишитесь на рассылку новостей, файлов, книг.
Поддержите Ладошки своей посещаемостью, изучением коммерческой информации, ссылками.
|
